在电子信息产业的精密制造中，ITO 玻璃（氧化铟锡导电玻璃）作为显示器件、触控屏幕的核心基材，其表面处理精度直接决定了终端产品的性能。等离子清洗机以 “纳米级清洁 + 活性改性” 的双重能力，成为 ITO 玻璃生产线上的关键一环。当高能等离子体与 ITO 玻璃相遇，一场关于表面性能的 “蜕变” 正在悄然发生……

ITO 玻璃在生产运输中易吸附油污、指纹、金属颗粒等污染物，这些微米级杂质会导致后续镀膜脱落、电极接触不良等问题。等离子清洗机通过电离气体产生高能离子束，如 “纳米级橡皮擦” 般精准剥离污渍：

等离子体中的活性氧原子与油污、光刻胶残留发生氧化反应，分解为 CO₂和水蒸气排出，确保偏光片贴合、电极印刷等工序的良品率提升 30% 以上。

图源：IENER ELECTRONIC

高能离子的轰击使灰尘、金属氧化物颗粒脱离表面，由真空泵实时吸附，实现玻璃表面洁净度从 “微米级” 到 “纳米级” 的跨越。

传统 ITO 玻璃表面呈化学惰性，与功能性材料的结合力较弱。等离子处理通过 “微观蚀刻 + 极性基团引入”，实现三大核心改变：

表面生成大量羟基（-OH）等极性基团，接触角从 80° 降至 30° 以下，为湿法蚀刻、纳米涂层均匀涂布提供理想基底。

微观粗糙化（Ra 值 1-5nm）与表面能提升，使镀膜附着力增强 3.5 倍，导电胶与 ITO 膜的接触电阻降低 20%，有效解决柔性屏弯折时的膜层开裂问题。

等离子体打破表面化学键，使玻璃表面成为 “活性位点”，促进抗静电涂层、防指纹膜等功能性材料的化学键合，赋予 ITO 玻璃更多应用可能。

ITO 膜层的导电率与透光率是核心性能指标，等离子处理通过控制能量参数实现 “双向优化”：

▶正向调控：低能量等离子体可细化 ITO 晶粒，减少晶界电阻，使导电性能提升 5%-10%，同时不影响透光率（透光率变化＜1%）。

▶安全边界：避免传统湿法清洗的化学腐蚀风险，等离子体的物理轰击作用温和可控，确保膜层无损伤，尤其适合 0.1mm 以下的超薄玻璃处理。

在众多工业级等离子设备中，鹏硕科技凭借 10 余年技术积淀，推出专为 ITO 玻璃设计的等离子清洗解决方案。其设备通过高频电源精准控制等离子体能量。

无论是 LCD 面板的大规模制造，还是 Mini LED、柔性屏的前沿研发，鹏硕等离子清洗机以 “精准、稳定、高效” 的特性，成为多个头部企业的长期合作伙伴。