等离子体处理通过电离气体产生高能粒子，与 ITO 表面发生作用：一方面有效去除有机物残留、金属离子等污染物，使表面达到纳米级洁净状态；另一方面增加表面氧原子含量，调整锡与铟原子比例，提升 ITO 表面功函数，减小向有机层注入空穴的能量势垒，提高电荷传输效率。

经等离子体处理的 ITO 基板可显著改善 OLED 器件性能。表面亲水性提升使有机材料涂布更均匀，减少成膜缺陷；电荷注入效率提高则优化了器件的发光均匀性、亮度和寿命，实际应用中可观察到开启电压降低、电流效率提升等效果。

等离子体处理效果与工艺参数密切相关。射频功率需控制在合理范围（如 50-150W），避免损伤 ITO 导电层；处理时间通常为 30 秒至 5 分钟，过短清洁不彻底，过长可能过度刻蚀；气体种类可选择氧气（侧重化学活化）或氩气（侧重物理刻蚀），也可根据需求使用混合气体。

在 OLED 制造中，ITO 基板的等离子体处理需要精准稳定的设备支持。鹏硕等离子清洗机针对光电行业需求，提供定制化解决方案：自主研发的射频电源可精确调节功率，确保处理均匀性；智能控制系统支持多参数存储，适配不同规格 ITO 玻璃；干式清洁工艺无需化学试剂，环保且能与生产线无缝对接。如需优化 OLED 生产工艺或获取具体处理方案，欢迎联系鹏硕，以专业技术助力性能提升。